《电子工业专用设备》主要面对国内外从事电子专用设备研究、设计、制造及应用领域的科学工作者、工程技术人员、大专院校师生及管理干部等。其宗旨是：坚持四项基本原则、贯彻“双百”方针，报导国内外电子专用设备在科研、生产中具有先进水平的科研成果，学术动态等，为促进学术与技术交流和提高我国电子专用设备科研生产水平服务，它是我国电子专用设备行业创刊最早、且唯一全面报导各类电子专用设备的刊物，在国内外影响日益扩大，读者遍布全国。

《电子工业专用设备》创刊于1971年，是由中国信息产业部主管,中国电子科技集团公司第四十五研究所主办, 中国电子专用设备工业协会会刊；是业内最具权威的国内外公开发行的国家级刊物。是目前国内电子专用设备领域唯一获正规出版发行的权威专业刊物，多年来为推动我国电子专用设备的发展发挥了极其重要的作用。荣获2001~2002年度标准化规范化部级奖、获2003~2004年度出版质量部级奖，中国电子科技文摘收录期刊。

1、文稿务求论点明确，文字简洁，数字准确，引用资料需给出文献。文稿字数一般应在4000—7000字范围（包括图表）。

2、题目（不超过20字）、作者及工作单位、地址、邮编、摘要（包括研究目的、方法、结果和结论，200—300字），关键词（3—8个）。

3、文中图表。插图应有图序和图题，若有分图除应有总图题外还应有分图题。

4、本刊不刊登带有密级的文稿，凡投入本刊的文稿均需附本单位保密委员会的审查证明，保密责任作者自负，对于侵犯他人版权或其他权利的文稿，本刊概不承担任何连带责任。

年度被引次数报告 (学术成果产出及被引变化趋势)

• 纳米集成电路制造中的CMP

  总结了化学机械抛光技术在当前纳米集成电路工艺流程中的实际应用,分析了存在的问题和挑战,以及CMP的发展趋势;同时充分评估了CMP在纳米集成电路制造中的关键作用,以及掌握其核心技术的战略意义。

  作者：王海明 刊期： 2018年第02期

• 光伏产业市场分析

  对光伏产品市场供应现状、需求、价格和风险等进行了分析及预测。

  作者：岳永杰 刊期： 2018年第02期

• 电子工艺设备技术性能指标提出方法及内容研究

  针对用户提出的电子工艺设备技术性能指标内容不完整、不清晰、不准确,导致设备不能与工艺技术及使用环境要求完全匹配现象,对电子工艺设备技术性能指标提出方法及内容进行了研究,结合多年的实践经验,从正式提出电子工艺设备技术性能指标前的准备工作、技术性能指标构成要素、各要素的关键点、详细技术性能指标的表现形式等方面,给出了方法和技...

  作者：彭兴文; 卢丹丹 刊期： 2018年第02期

• 基于机器视觉的裸片表面缺陷在线检测研究

  针对准确和实时检测裸片表面缺陷的需求,提出了一种基于线性判别分析（Linear Discriminant Analysis,LDA）和支持向量机（Support Vector Machine,SVM）的在线检测算法。首先,采用高斯滤波方法滤除裸片表面图像中的噪声;然后,提取裸片表面缺陷的Hu不变矩和方向梯度直方图（Histogram of Oriented Gradients,HOG）特征,采用LDA方法对特征进行降...

  作者：林佳; 王海明; 郭强生; 刘晓斌; 周丹 刊期： 2018年第02期

• 基于动态补偿原理的超声波发生器研究

  从键合过程分析、硬件电路实现和动态补偿等方面简要介绍了一种基于动态补偿原理的超声波发生器。对于提高键合推拉力强度、改善键合工艺的一致性具有重要意义,保证了封装器件以及模块的可靠性。

  作者：梁杰 刊期： 2018年第02期